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下一代0.55NA EUV系统方面，首台EXE:5000将于2024年初发货，并于2025年批量生产，在2023年晚些时候，ASML位于Veldhoven的工厂就将与imec合作建立一个高NA EUV演示实验室，并于2024年初运行0.55NA EUV光刻机。
根据规划，实际投放市场的量产型高数值孔径曝光工具将是EXE:5200，预计将于2025年初发货。
Jones还谈到，如果工艺节点继续缩小，即使是0.55NA曝光工具最终也需要多重图案化，而ASML正在认真讨论NA约为0.75的“Hyper NA”工具，但具体参数尚未确定。一个关键问题是何时/是否需要这样的工具。 在DUV产品线，全新的NXT:2100i引入4项新功能，可改善未来逻辑和DRAM的套刻误差至远低于1.3纳米。
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