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图源：北方华创公众号
据介绍，在器件制造过程中，由于薄膜沉积、光刻、刻蚀和化学机械抛光等工艺步骤的大幅增长，在晶圆的边缘造成了不可避免的副产物及残留物堆积，这些晶边沉积的副产物及残留物骤增导致的缺陷风险成为产品良率的严重威胁，因此，越来越多逻辑及存储芯片等领域制造商开始重点关注 12 英寸晶圆的边缘 1mm 区域，从晶圆的边缘位置着手提高芯片良率。晶边刻蚀机作为业界提升良率的有力保障，其重要性日益凸显。
Accura BE 作为首台国产 12 英寸晶边刻蚀设备，其技术性能“已达业界主流水平”，官方宣传亮点如下：
通过软件系统调度优化与特有传输平台的结合，可助力客户实现较高的产能； 通过选择搭配多种刻蚀气体，实现对 PR（光刻胶），OX（氧化物），SiN（氮化硅），Carbon（碳），Metal（金属）等多类膜层材料的晶边刻蚀工艺全覆盖； 可定制多种尺寸的聚焦环设计组合，实现对等离子体刻蚀区域的精准位置控制，从而为客户提供灵活、全面的良率提升方案； 具备软件智能算法，可实施可视化的量化调节，简化维护流程，提高设备生产效率。
北方华创表示，Accura BE 刚发布上市，就已斩获逻辑及存储器领域头部客户多个订单，通过工艺调试，进入量产阶段。
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