刻蚀的方法及特点

刻蚀方法-- 干法刻蚀
• 特点: 利用刻蚀气体辉光放电形成的等离子体进行刻蚀。
• 优点: 各向异性好，选择比高，可控性、灵活性、重复性好，细线条操作安全，易实现自动化，无化学废液，处理过程未引入污染，洁净度高。
• 缺点：成本高，设备复杂。
• 分类：物理性、化学性、物理化学性刻蚀。

物理性刻蚀
• 机理：利用辉光放电将惰性气体解离成带正电的离子，再利用偏压将离子加速，轰击被刻蚀物的表面，并将被刻蚀物材料的原子击出。
• 设备：离子铣
• 特点：
1.纯粹的机械过程，对所有材料都可实现强的各向异性刻蚀。
2.选择比差；
3.刻出物易再淀积；
4.易对下面结构造成损伤；
5. 单片刻蚀。

化学性刻蚀
设备：高压等离子体刻蚀机
• 特点：
1.主要依靠化学反应进行刻蚀，选择性好；
2.各向异性差；
3.对基底的损伤小
4.刻蚀速度低。

物理化学性刻蚀
• 机理：物理性的离子轰击和化学反应相结合实现的刻蚀。
• 设备：反应离子刻蚀机（RIE)
• 传统的RIE设备结构简单、价格较低廉。通过适当选择反应气体、气压、流量和射频功率，可以得到较快的刻蚀速率和良好的各向异性。
• 特点：
1.选择比较高；
2.各向异性较好，
3.刻蚀速度较快
• 离子轰击的作用：
1.将被刻蚀材料表面的原子键破坏；
2.将再淀积于被刻蚀表面的产物或聚合物打掉

楼主的帖子我觉得非常有意义

不明觉厉

谢谢楼主的分享，这篇文章让我受益匪浅